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一、非晶帶材退火爐簡介非晶退火爐、非晶連續(xù)式退火爐、非晶帶材退火爐為我公司根據客戶需求定制的專業(yè)熱處理設備，主要用于：半導體器件、金屬陶瓷、可控硅器件、玻璃封

一、管式擴散爐用途管式擴散爐是我公司根據客戶需求個性化專業(yè)定制的高溫熱處理設備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)中進行擴散、氧化

福潤德爐體可完全代替進口，優(yōu)質加熱爐絲，進口保溫材料采用國外先進加工工藝，可長期在高溫下處理12英寸以下硅片，工作溫度200—1300℃延長使用壽命2.3個月，外表溫度比同

設備用途:用于半導體器件燒結、焊接、烘干、管殼氣密封裝等。鏈（帶）式燒結爐特點本設備為氣氛保護爐，保護氣氛為氫氣、氮氣、氬氣等。

擴散爐是半導體器件及大規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝的一種熱加工設備。其組成有：加熱爐（擴散爐主機）、凈化工作臺、送片系

石英軟領為進口石英纖維棉采用德國加工工藝制成，用于擴散爐和PECVD設備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問題：一是保溫棉長時間在高溫下出現(xiàn)

真空爐主要用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產線對所生產產品進行燒結、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點。

氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬等在氫氣氣氛保護下進行還原、退火、合金等工藝，也可以進行氧化工藝。

微控擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系

程控擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系

設備用途:用于半導體器件燒結、焊接、烘干、管殼氣密封裝等。鏈（帶）式燒結爐特點本設備為氣氛保護爐，保護氣氛為氫氣、氮氣、氬氣等。設備具有

LPCVD設備滿足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積sio2、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難溶金屬硅化物等多種薄膜工藝。

高純材料提純設備主要滿足高純砷等新材料制造行業(yè)，對材料進行氣氛保護下的燒結、升華、還原、精餾等工藝。

用途簡介：工業(yè)電加熱系統(tǒng)中最具廣泛應用的SSR信號處理控制器，它能接受PWM或4-20mA輸入，產生周期過零式（PWM占空比控制）和周波過零式（CYC變周期）兩種輸出，直接驅動SS

PAC30A詳細說明PAC01/PAC30智能調壓器以令人贊嘆的完美設計開創(chuàng)數字調壓器的新紀元。它操作簡單，功能齊全。獨立的DBC電力模塊，易于散熱和維護，并避免了危險的集中。歐式

XIMADEN3A-800A全系列,采用技術成熟的DBC銅瓷鍵合技術,超薄的焊接層,使產熱達到更好的效果,提高了固態(tài)繼電器的使用壽命,減少因為熱疲勞導致?lián)舸�損壞。 固態(tài)繼電器（S

一.產品特點 本公司自主研發(fā)生產的PAC30A+系列SCR調功調壓器是集合我公司多年電加熱控制經驗，是專為電爐設備而設計的：其調功、調壓、負載中心接地、不接地，可以由客戶

最大特點： 1、客戶可根據需求，自己任意設定3種觸發(fā)模式：移相觸發(fā)、周波過零觸發(fā)、過零觸發(fā)。 2、客戶可根據需求，自己任意設定2種負載接線模式：負載中心不接