QCZ系列氫氣凈化設(shè)備 一、原理： 在水電解過程中，由于石棉隔膜并不能絕對阻隔氫氣和氧氣的相互滲透，特別是在氫與氧兩側(cè)壓力相差大的情況下，而且電解液是不斷循環(huán)的，在分離器里，氫氣、氧氣和電解液是很難達(dá)到完全分離，所以用水電解法制得的氫氣里，含有雜質(zhì)氧，一般在0.2%以下。又由于制氫過程是氣液共存的，所以氫氣中還存有飽和含水量。 QCZ系列氫氣純化裝置以水電解氫氣為原料氫氣進(jìn)入純化裝置的氣水分離器，分離去游離子水后進(jìn)入脫氧器,在鈀鉑觸媒催化劑的作用下,使原料氫中的雜質(zhì)氧與氫反應(yīng)生成水汽。脫除雜質(zhì)氧后，經(jīng)氫氣冷卻器和氫氣冷凝器（使用冷卻水）及自動氣水分離器，分離去游離的凝水，然后進(jìn)入分子篩吸附干燥器（I）去濕，再通過壓力調(diào)節(jié)閥調(diào)定純化工作壓力和通過高效過濾器除塵，獲得純氫產(chǎn)品。 注：根據(jù)實際操作使用情況，加熱溫度、再生吹冷時間、閥門切換時間可作適當(dāng)調(diào)整。并也可按露點值決定閥門的切換時間。還可以根據(jù)客戶需要在裝置出口添加在線分析儀（微水儀、微氧儀）自動檢測的產(chǎn)品氫純度。一旦氫氣不合格會報警，并由放空閥放空，待問題解決合格后又自動恢復(fù)生產(chǎn)合格的純氫產(chǎn)品。 二、裝置要求 1. 工藝要求： 氫氣經(jīng)純化后雜質(zhì)含量應(yīng)控制為： H2≥99.999% 水氣（H2O）≦-65℃ 氧含量（O2） ≦1ppm 粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網(wǎng)目≦1μ的過濾器。 ※ 凈化時氫氣消耗量： ※ （我公司為三塔流程氣體再生時無氫氣排放，氫氣消耗量為零 ）。 送出界區(qū)壓力：≥0.8-1.6MPaG 2.適用標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范 GB3863《工業(yè)用氣態(tài)氧》 GB3864《工業(yè)氫氣》 GB4962《氫氣使用安全技術(shù)規(guī)程》 GB50177《氫氧站設(shè)計規(guī)范》 GB50058《和火災(zāi)危險環(huán)境電力裝置設(shè)計規(guī)范》 GB7251《低壓成套開關(guān)柜》 GB150《鋼制壓力容器》 GB151《鋼制管殼式換熱器》 《鋼制壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》 3.用途 氫氣是主要的工業(yè)原料，也是最重要的工業(yè)氣體和特種氣體，本公司凈化設(shè)備能把工業(yè)瓶裝氫氣凈化得到高純氫、超高純氫。高純氫氣廣泛應(yīng)用于石油化工、電子工業(yè)、電子半導(dǎo)體、冶金工業(yè)、機(jī)械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產(chǎn)業(yè)部門和科學(xué)研究中、生產(chǎn)部門亦可作為熱處理保護(hù)氣體以及精細(xì)有機(jī)合成、航空航天等方面有著廣泛的應(yīng)用。例如本機(jī)已在精密合金熱處理、航天航空、半導(dǎo)體硅材料、硅外延、化合物半導(dǎo)體等的生產(chǎn)中的應(yīng)用，效果都很好。