氫氧化鋁水性漿料粉碎機,氫氧化鋁水性漿料高速粉碎機,氫氧化鋁水性漿料納米粉碎機,氫氧化鋁水性漿料超細粉碎機,氫氧化鋁漿料粉碎機 氫氧化鋁水性漿料簡介 氫氧化鋁水性漿料，將氫氧化鋁粉末加入中水性，然后通過分散設備均勻穩(wěn)定的分散后，得到高質量的氫氧化鋁水性漿料，可廣泛用于阻燃劑行業(yè)。 氫氧化鋁的核心應用 氫氧化鋁是用量最da和應用最廣的無機阻燃添加劑。氫氧化鋁作為阻燃劑不僅能阻燃，而且可以防止發(fā)煙、不產生滴下物、不產生有毒氣體，因此，獲得較廣泛的應用，使用量也在逐年增加。使用范圍：熱固性塑料、熱塑性塑料、合成橡膠、涂料及建材等行業(yè)。同時，氫氧化鋁也是電解鋁行業(yè)所必需氟化鋁的基礎原料，在該行業(yè)氫氧化鋁也是得到非常廣泛應用。 氫氧化鋁水性漿料分散設備推薦 結合多家化工企業(yè)案例，我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速粉碎機進行氫氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為2μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。 影響研磨效果的因素： 1 磨頭的形式（臥式和立式） 2 磨頭頭的剪切速率 3 磨頭的齒形結構（見磨頭結構） 4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間 5 循環(huán)次數 研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉子 間距 (m) 由上可知，研磨速率取決于以下因素： – 磨頭的線速率 – 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 （相對而言） 速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60 IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 F=40/0.7/X1000=57142 S-1 而對CMD模塊頭，磨頭的間歇G理論可以無限小，但是由于高速的運轉，造成軸的振動，需要一定的間歇，作用力可以無限大，但實際上比粉碎機要好。這是粉碎研磨的重要因素，相當于國內粉碎機的2-3倍。流量為0-50KG/H，腔體帶夾套，可以進行加熱或冷卻，采用進口DANFOSS變頻器對速度進行調節(jié)，設備體積適中，電機選用的是進口ABB電機，西門子防爆電機。結構設計采用的事目前最流行的分體結構，密封可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉。 IKN氫氧化鋁水性漿料粉碎機結構 氫氧化鋁水性漿料粉碎機，是由粉碎機和粉碎機組合而成的設備，轉速高達14000rpm，強大的剪切力。粉碎機磨頭配合粉碎機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設計的優(yōu)勢在于，粒子細化之后容易出現絮凝現象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。 CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了粉碎機磨頭，使物料可以先經過粉碎機細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。粉碎機可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。 氫氧化鋁水性漿料粉碎機選型表 型號 流量 L/H 轉速 rpm 線速度 m/s 功率 kw 入/出口連接 DN CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15 CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32 CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65 CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65 CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125 在一般的情況下，我們的機械密封可以最大承受16bar 壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口最大壓力可以達到12-13 bar . 同時機械密封的使用壽命和以下因素有關，滿足以下條件使得機械密封的使用壽命更長: - 可允許的壓力比率 - 充份的冷卻和濕度 - 材料的合適搭配. 機械密封本身會產生磨損和破裂. 磨損得主要原因是: - 壓力差 - 溫度 - 分散物料的腐蝕性 - 密封的材料