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GMD2000氮化物研磨分散機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

氮化物研磨分散機(jī),氮化物分散機(jī),氮化物高速分散機(jī),氮化物納米分散機(jī),氮化物超細(xì)分散機(jī)   氮化物,氮化物是一類氮的化合物,其中氮顯-3價(jià)。包括金屬氮化物、非金屬氮化物和氨(NH3,氮負(fù)三價(jià)),習(xí)慣上將氨作為一種特殊物質(zhì),不列入氮化物中。金屬氮化物的熱穩(wěn)定性高,可用作高溫絕緣材料。非金屬氮化物的熱穩(wěn)定性也比較高,各具特殊性質(zhì)。六方氮化硼是優(yōu)良潤(rùn)滑劑;而立方氮化硼硬度大,可用來(lái)制車刀、鉆頭等。 技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來(lái)電:葛經(jīng)理  13761159496 公司有樣機(jī)可供客戶購(gòu)前實(shí)驗(yàn), 歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)! 氮化物的應(yīng)用和氧化物的應(yīng)用都需要將粉體物料均勻的分散到液體介質(zhì)當(dāng)中,需要進(jìn)行研磨分散細(xì)化,SGN分散設(shè)備采用特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu),將研磨機(jī)和分散機(jī)合二為一,物料可以實(shí)現(xiàn)一步到位的研磨分散處理,氮化物漿料分散采用SGN研磨分散設(shè)備可以獲得均勻的漿料體系,并且物料粒徑一般可細(xì)化至DN90≤1μm。    SGN研磨式分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問(wèn)題! GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)                GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn): ①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨 ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。 ③   定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。     GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表   型號(hào) 流量 L/H 轉(zhuǎn)速 rpm 線速度 m/s 功率 kw 入/出口連接 DN GMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15 GMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32 GMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65 GMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65 GMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125 GMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150 1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。 2.處理量取決于物料的粘度,稠度和最終產(chǎn)品的要求。 3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。 4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).   氮化物研磨分散機(jī),氮化物分散機(jī),氮化物高速分散機(jī),氮化物納米分散機(jī),氮化物超細(xì)分散機(jī),SGN研磨式分散機(jī)專業(yè)于納米級(jí)物料的分散機(jī),解決團(tuán)聚問(wèn)題,還原原始納米粒徑,更高效!   氮化物研磨分散機(jī)信息來(lái)源:www.sgnprocess.cn

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