“自動去毛刺拋光機的應(yīng)用范圍（技術(shù)支持153-7033-5309）”詳細介紹

自動去毛刺拋光機的應(yīng)用范圍（技術(shù)支持153-7033-5309）

1、快速去除工件死角，內(nèi)孔，表面，夾縫毛刺。2、去毛刺拋光后的工件不影響原來太大精度；形狀和尺寸都不會有變化。表面粗糙度值可達到Ra0.1- Ra0.01，表面展現(xiàn)光亮金屬光澤。 3、時間短，效率高，實現(xiàn)自動化。

4、適合于批量生產(chǎn)加工。

5、達到產(chǎn)品整體一致性，大大提高產(chǎn)品品質(zhì)。

注：機器主要用于去除五金加工以后的嚴重孔，槽，異型結(jié)構(gòu)件的任何加工端面翻邊，毛刺。如鋸片，激光切割，機加工，包括沖壓板金的毛刺及拉升變形多余部分去除。在不傷害工件尺寸的基礎(chǔ)上加工，其它特殊規(guī)格零件外表面去毛刺，可以增加設(shè)計結(jié)構(gòu)來制造，設(shè)備可以采用采用16個工作工位。由一至多個機主組成。機主越多，加工效率越高。可以控制去毛刺同時到圓角半徑從R0.02mm～R0.50mm范圍內(nèi)，誤差比較小.

以上信息由蘇州大越去毛刺拋光機廠家提供.

1、研磨后的清洗

研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二***鈰為主的堿金屬***物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種：一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

有機溶劑清洗采用的清洗流程如下:

有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三***烷或三***烯。由于三***烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，處于強制淘汰階段；而長期使用三***烯易導(dǎo)致職業(yè)病，而且由于三***烯很不穩(wěn)定，容易水解呈酸性，因此會腐蝕鏡片及設(shè)備。對此，國內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學(xué)玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標，可有效滿足不同設(shè)備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業(yè)的清洗設(shè)備的溶劑清洗槽冷凝管較少

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬***物，溶劑對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國內(nèi)的光學(xué)玻璃專用水基清洗劑品種較少，很多外資企業(yè)都選用進口的清洗劑。而國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑，并成功地應(yīng)用在國內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠，清洗效果完全可以取代進口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優(yōu)于進口產(chǎn)品。

半水基清洗采用的清洗流程如下:

半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥

此種清洗工藝同溶劑清洗相比最大的區(qū)別在于，其前兩個清洗單元：有機溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果，但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機污染物，還對研磨粉等無機物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在第一個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大

國內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較昂貴。

從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。

溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點也比較明顯，由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。

它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)；設(shè)備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進行漂洗。