磁控濺射靶材
(可為電子與半導體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車玻璃行業(yè),薄膜太陽能電池行業(yè),磁存儲行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質靶材)
高純單質金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶材Al,鉻靶材Cr,銅靶材Cu,鎳靶材Ni,硅靶材Si,鍺靶材Ge,鈮靶材Nb,鈦鈀材Ti,銦靶材In,銀靶材Ag,錫靶材Sn,石墨靶材C,鉭靶材Ta,鉬靶材Mo,金靶材Au,鉿靶材Hf,錳靶材Mn,鋯靶材Zr,鎂靶材Mg,鋅靶材Zn,鉛靶材Pb,銥靶材Ir,釔靶材Y,鈰靶材Ce,鑭靶材La,鐿靶材Yb,釓靶材Gd,鉑靶材Pt等高純單質金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶材,AZO靶材,IGZO靶材,氧化鎂靶材MgO,氧化釔靶材Y2O3,氧化鐵靶材Fe2O3,氧化鎳靶材Ni2O3,氧化鉻靶材Cr2O3,氧化鋅靶材ZnO,硫化鋅靶材ZnS,硫化鎘靶材CdS,硫化鉬靶材MoS2,二氧化硅靶材SiO2,一氧化硅靶材SiO,二氧化鋯靶材ZrO2,五氧化二鈮靶材Nb2O5,二氧化鈦靶材TiO2,二氧化鉿靶材HfO2,二硼化鈦靶材TiB2,二硼化鋯靶材ZrB2,三氧化鎢靶材WO3,三氧化二鋁靶材Al2O3,五氧化二鉭靶材Ta2O5,氟化鎂靶材MgF2,硒化鋅靶材ZnSe,氮化鋁靶材AlN,氮化硅靶材Si3N4,氮化硼靶材BN,氮化鈦靶材TiN,碳化硅靶材SiC,鈮酸鋰靶材,鈦酸鐠靶材,鈦酸鋇靶材,鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.
備注:CNM生產的陶瓷靶材采用世界最先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術,相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶材Ni-V,鎳鉻合金靶材Ni-Cr,鈦鋁合金靶材Ti-Al,硅鋁合金靶材Si-Al,銅銦合金靶材Cu-In,銅鎵合金靶材Cu-Ga,銅銦鎵合金靶材Cu-In –Ga,銅銦鎵硒靶材Cu-In –Ga-Se,不銹鋼靶材,鋅鋁合金靶材Zn-Al,鎢鈦 靶材W-Ti,鐵鈷靶材 Fe-Co,白銅靶材等高純合金濺射靶材。